近日，我司工程師在新疆農(nóng)三師農(nóng)科所完成了OS5p+便攜式葉綠素?zé)晒鈨x的安裝培訓(xùn), 主要用于協(xié)助監(jiān)測(cè)高溫脅迫對(duì)棉花生長(zhǎng)的影響。研究作物高溫傷害及其生理生化基礎(chǔ)，將有助于采取相應(yīng)措施減輕高溫危害，并為篩選抗高溫基因型提供有效的途徑。選育抗高溫品種并輔以配套技術(shù)措施，對(duì)抵御高溫逆境尤為重要。

                 圖1：                                                       

                                                                     現(xiàn)場(chǎng)安裝圖片

葉綠素?zé)晒庾鳛樽魑锏墓夂咸匦詤?shù)可以直觀快速的反應(yīng)其高溫抗性，其中：

（1） 最大光化學(xué)效率Fv/Fm對(duì)45^o C以上高溫比較敏感。（Haldiman P，＆Feller U.   

2004）（Schreiber U. 2004），（Baker and Rosenqvist 2004）（Crafts-Brander and Law 2000）。

 （2） 實(shí)際光量子產(chǎn)量Y（II）是一種光適應(yīng)快速檢測(cè)，大約需要兩秒鐘。 Y（II）是用于快速測(cè)量高溫脅迫的最敏感的葉綠素?zé)晒鈪?shù)。可以檢測(cè)到約 35℃或更高溫度下的熱脅迫（Haldiman P，＆Feller U.2004），（Dascaliuc A.，Ralea t.，Cuza P.，2007）。 在測(cè)量 Y（II）時(shí)需要使用 PAR 葉夾，因?yàn)閿?shù)值會(huì)隨光強(qiáng)而變化，PAR 葉夾會(huì)根據(jù)葉片的位置和角度測(cè)量葉片溫度和接收到 PAR。

（3） 性狀指數(shù)PI _ABS ---對(duì)高溫脅迫敏感的快速暗適應(yīng)檢測(cè)（OJIP 協(xié)議）。 這是一個(gè)用于比較不同樣品高溫脅迫的標(biāo)準(zhǔn)化的參數(shù)。 可以檢測(cè) 44℃及以上的熱脅迫，但對(duì) 44℃以下的熱脅迫不敏感。

 （4） 非光化學(xué)淬滅NPQ --- 是一項(xiàng)需要大約二十到三十五分鐘和整夜暗適應(yīng)的檢測(cè)。淬滅參數(shù)檢測(cè)適用于溫度高于 35℃的中度高溫脅迫，如監(jiān)測(cè)高溫環(huán)境下橡木 - 桉樹的 NPQ 和 qP（Haldiman P，＆Feller U. 2004）， 菠菜的中度高溫脅迫。 （Tang Y.，Wen X.，Lu Q.，Yang Z.，Cheng Z.，＆Lu C. 2007）。

OS5p+作為一款高級(jí)便攜式研究型葉綠素?zé)晒鈨x，可以測(cè)量如下葉綠素?zé)晒鈪?shù)：

? Fv/Fm，Y(II)，ETR，PAR，葉片溫度，RLC（ETRmax，Im，Ik& a）,

? Kramer lake 淬滅模型（Y(NPQ), Y(NO), Y(II), qL , & ETR）

? Hendrickson lake淬滅模型（NPQ, Y(NPQ), Y(NO), Y(II) & ETR）

? Baker puddle模型（qP , qN , & NPQ）

? 淬滅弛豫（葉黃素循環(huán)qE、狀態(tài)轉(zhuǎn)換qT、葉綠體遷移qM &光抑制 qI）

? Strasser  OJIP協(xié)議（所有參數(shù)）

? Vredenburg OJIP 淬滅協(xié)議

其中淬滅弛豫參數(shù)（qE、qT、qM & qI）是非光化學(xué)淬滅NPQ的四個(gè)分量，精確計(jì)算四個(gè)分量有助于從光能利用的角度深層次研究植物的抗性機(jī)理。qE和qM可用于評(píng)估光保護(hù)性能，qI是光合作用的光抑制作用，反應(yīng)植物對(duì)環(huán)境脅迫的保護(hù)性調(diào)節(jié)，qT是改變進(jìn)入光系統(tǒng)I和光系統(tǒng)II反應(yīng)中心的能量流平衡的過(guò)程，反應(yīng)植物對(duì)光能的利用能力。

Goss和Lepetit（2015）使用光保護(hù)性成分qE、qM鑒定抗性品種。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計(jì)算方法，并利用它們進(jìn)行抗性品種的篩選（Maxwell and Johnson 2000，Guadagno et al.2010，Rohá?ek2010，Kasajima et al.2015，Tietz et al.2017）。

優(yōu)勢(shì)如下：

（1） 長(zhǎng)時(shí)間淬滅測(cè)量過(guò)程中可保持“穩(wěn)定"光化光強(qiáng)輸出；

（2） 內(nèi)置多相飽和光閃校正程序，確保高光照條件下也可以測(cè)得準(zhǔn)確的Fm’和Y(II)；

（3） 可以測(cè)量非光化學(xué)淬滅NPQ的全部組分（qE、qM、qT&qI）；

（4） 自動(dòng)設(shè)置調(diào)制光強(qiáng)，降低人為操作誤差；